小型真空熱處理爐以摻鉬合金加熱絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和PID30段程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用軟質和硬質碳纖維材料，能快速升降溫。采用外殼整體密封，蓋板和爐門密封均采用高溫硅膠O型圈。該爐必須在真空下燒結，該爐在側面開有DN150MM的法蘭接頭接擴散泵，擴散泵后接有真空泵，并配有真空閥、復合真空計等，該爐具有體積小、溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、*、節能等優點，是高校、科研院所、工礦企業做真空燒結用的理想產品。 該款箱式爐各項指標均達到了水平，可實現快速升溫和降溫，可實現無氧化、無脫碳、無滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達到表面光亮凈化的效果。