如何選擇管式爐？
1、了解您的應用程序
單區與多區：多區爐具有多個獨立控制的恒溫區，允許受控的溫度梯度或較長的加熱區。
水平（標準）與垂直：垂直管爐提供較小的占地面積，可用于快速加熱/淬火過程
RTP（快速熱處理）：可滑動的樣品保持器或加熱爐
高壓/真空爐：特殊設計的高溫高壓真空處理用不銹鋼或高溫合金管
旋轉管式爐：加熱過程中旋轉管以提高粉末加工/涂層均勻性
氣體處理能力：可用于氫氣處理和高溫腐蝕研究的特殊模型
多功能：基于管式爐的完整系統，如CVD、PECVD、HPCVD、ALD、石墨烯和2D材料生長系統等
 
2、選擇工作溫度
請注意有高溫度（可維持1小時）和連續工作溫度（安全，連續使用溫度）高工作溫度取決于所用的加熱元件，可分為四類
a.250～1250°C Fe－Cr－Al或Ni-Cr－Al合金加熱元件K型熱電偶
b.1300～1600°C SiC加熱元件S型熱電偶
c.1600～1800°C MoSi2發熱元件B型熱電偶
d.1800～2000°C石墨或W加熱元件C型熱電偶